分析装置

プリント基板関連事業/半導体・太陽光発電関連事業に特化した分析装置。主に硫酸銅めっき添加剤測定装置、3D加熱変形解析装置(シャドウモアレ原理)などがございます。

  • 硫酸銅めっき液添加剤測定装置(ECI Technology社製)

    QL-10EZ

    硫酸銅めっき液添加剤測定装置(ECI Technology社製)

    有機添加剤(促進剤、抑制剤、レベラー)を一括分析できます

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  • 酸化膜・金属膜厚測定装置(ECI Technology社製)

    QC-100

    酸化膜・金属膜厚測定装置(ECI Technology社製)

    ボンディグワイヤー測定専用機QC-200では、銅、銀ワイヤ-の検査管理が可能

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  • 3D加熱表面形状測定装置(akrometrix社製)

    AXP

    3D加熱表面形状測定装置(akrometrix社製)

    JEDEC、JEITA規格に準拠したシャドウモアレ原理でサンプルの表面形状を高速測定

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  • 銅膜厚測定器(UPA Technology社製)

    img07

    銅膜厚測定器(UPA Technology社製)

    4点式微小抵抗法、内層銅の影響を受けずに測定可能

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